由于真空鍍鋁薄膜上的鍍鋁層非常薄，因此不能用常規的測厚儀器檢測其厚度，目前測量鍍鋁膜的厚度均勻性的專用儀器是光密度儀。光密度儀原理是光密度法通過對薄膜透光率光學性能進行檢測。
鍍鋁膜的厚度均勻性測量方法：
1、高倍電子顯微鏡直接測量，精確度為10E-10米，也就是0.1納米（1米＝1000mm，1mm＝1000微米，1微米＝1000納米，1納米＝10埃米）。鍍鋁層的厚度一般為30埃米至800埃米之間。這個方法對鍍鋁層厚度方向上的斷面取樣手法要求極高，其精確度影響較大，但是所得數據是最為直接的物理測量。
2、方塊電阻法測量，我國有國家標準：GB/T 15717-1995《真空金屬鍍層厚度測試方法電阻法》。此標準中有詳細的方法描述，你有興趣可以下載下來看看。這是一種模擬檢測手段，有一定誤差，尤其是對半透明鍍鋁膜的檢測，簡直無法進行。
3、用光密度計進行檢測：目前這種儀器在物理學的原理方面是一樣的，但是奇怪的是連美國都有兩家公司生產的光密度計居然差別很大，一種是TOBIAS牌的，另一種是愛色麗（X-rite)生產的系列儀器。國內的光密度計就是林上科技的LS117光密度計；它是用光學透視的方法來換算鍍鋁層的厚度，也是一種模擬檢測方法。這種儀器可以適用于半透明鍍鋁膜，也能適用于不透明鍍鋁膜。

4、用光密度儀進行檢測，儀器很多，但全球標準都不統一，也是一種模擬檢測方法，適用于半透明鍍鋁膜的檢測。鍍鋁膜使用的檢測儀還是選擇光密度儀最為合適。